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近日，由晶洲裝備自主研發(fā)生產(chǎn)的國內(nèi)首臺量產(chǎn)型單槽6花籃大產(chǎn)能堿拋刻蝕清洗設(shè)備在晶洲智能裝備生產(chǎn)基地成功下線，該設(shè)備適用于TOPCon和PERC太陽能電池的濕法堿拋工藝，順利發(fā)往客戶端。

據(jù)了解，本次晶洲下線的堿拋刻蝕清洗設(shè)備采用單槽6花籃設(shè)計，每小時產(chǎn)能14400片，極大改善了鏈式去BSG或PSG+堿拋設(shè)備工序的產(chǎn)能瓶頸；該設(shè)備采用多項晶洲自主研發(fā)的獨創(chuàng)設(shè)計，在提升設(shè)備產(chǎn)能的同時，降低設(shè)備單耗、能耗，提升工藝穩(wěn)定性。

獨創(chuàng)的防帶液串槽設(shè)計：采用新型槽體結(jié)構(gòu)，工藝兼容性強，可收集花籃70%的帶液量，最大程度減少不同的藥水串槽，避免藥水交叉污染，降低單耗，提升藥水使用壽命，在清洗能力、潔凈度、工藝穩(wěn)定性方面表現(xiàn)非常優(yōu)秀。
獨創(chuàng)的槽體循環(huán)設(shè)計：行業(yè)獨創(chuàng)V型底板，更有利于徹底排空廢液，提升槽體換液潔凈度，提升藥水壽命。反應(yīng)槽采用第三代分布式盤管循環(huán)系統(tǒng)，使藥水循環(huán)快速平穩(wěn)，減少槽體上、中、下三層液面溫差，改善了因循環(huán)和劇烈反應(yīng)導致的花籃出片現(xiàn)象，大幅度降低大尺寸硅片的粘片概率，在硅片外觀、減重和反射率的均勻性方面表現(xiàn)優(yōu)異。

晶洲裝備是中國高端濕制程裝備及工藝技術(shù)綜合解決方案提供商，業(yè)務(wù)涉及太陽能光伏、平板顯示、半導體等多個領(lǐng)域。公司自2018年開始布局TOPCon電池濕法工藝設(shè)備，2021年在TOPCon電池濕法領(lǐng)域全面突破，實現(xiàn)批量交付并通過驗證，已交付設(shè)備涵蓋制絨清洗機、去BSP清洗機、去PSG清洗機、堿拋刻蝕清洗機、去繞度RCA清洗機等濕法主工藝設(shè)備。

原標題：國內(nèi)首臺！晶洲裝備TOPCon大產(chǎn)能堿拋刻蝕清洗設(shè)備成功下線