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美國k-Space公司作為原位、在線和離線測試設(shè)備的主要制造商，努力為半導(dǎo)體、薄膜材料和光伏產(chǎn)業(yè)的研究機(jī)構(gòu)和制造商提供專業(yè)的材料性能測試設(shè)備。我們的設(shè)備滿足幾乎所有的薄膜沉積手段的監(jiān)測要求，包括各種MBE, MOCVD, PLD, PVD, 濺射和蒸發(fā)設(shè)備。K-Space公司由密歇根州立大物理學(xué)教授Professor Clark創(chuàng)立于1992年，其后長期致力于在包括半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)和薄膜材料的沉積、退后和處理方面提供最好的的研究和制備監(jiān)測手段。

MOS Ultra Scan采用世界頂級薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)，MOS(Multi-beam Optical Sensor)多光束技術(shù)榮獲美國專利技術(shù)！同時KSA公司榮獲2008 Innovation of the Year Awardee！主要用戶：全球著名高等學(xué)府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大學(xué)等）、中國計量科學(xué)研究院、中科院上海微系統(tǒng)所、中科院上海光機(jī)所、中科院半導(dǎo)體所、半導(dǎo)體制和微電子造商（如IBM.，Seagate Research Center,PhillipsSemiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用。

應(yīng)用戶在薄膜應(yīng)力mapping測試方面的特殊需求，kSA依賴其過硬的技術(shù)制造服務(wù)團(tuán)，成功開發(fā)研制了具備超大面積mapping測試功能的kSA MOS Ultra-Scan, kSA MOS-US-1500，該設(shè)備曲率/應(yīng)力mapping測試成像面積高達(dá)1.5mx1.5m，各項技術(shù)指標(biāo)均優(yōu)于標(biāo)準(zhǔn)配置的薄膜應(yīng)力測試儀kSA MOS Ultra Scan。

同時據(jù)了解，該設(shè)備于2014年7月3日成功通過了中科院設(shè)備主管單位的驗收。