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天合光能獲得實用新型專利授權: "減反射膜及太陽能電池"
日期:2024-05-16   [復制鏈接]
責任編輯:sy_huamengqi 打印收藏評論(0)[訂閱到郵箱]
企查查數(shù)據(jù)顯示,天合光能新獲得一項實用新型專利授權,專利名為“減反射膜及太陽能電池”,專利申請?zhí)枮镃N202322528346.6,授權日為2024年5月14日。


專利摘要顯示,本實用新型涉及一種減反射膜及太陽能電池。上述減反射膜包括依次層疊設置的氮化硅層、氮氧化硅層以及氧化硅層,氮化硅層、氮氧化硅層和氧化硅層的折射率依次遞減,并且控制氮化硅層、氮氧化硅層和氧化硅層的厚度之比為(30~50)∶(15~25)∶(25~35),相較于傳統(tǒng)的氮化硅減反膜,能夠降低光反射率。上述減反射膜可設置在電池片基體的正面和/或背面上,其中,氮氧化硅層最靠近于電池片基體,氮氧化硅層位于氮化硅層遠離電池片基體的一側(cè),氧化硅層位于氮氧化硅層遠離氮化硅層的一側(cè)。上述減反射膜能夠提升太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。上述減反射膜設置在太陽能電池的背面時,能夠更好地提升背面效率,提升雙面率。

原標題:天合光能獲得實用新型專利授權: "減反射膜及太陽能電池"
 
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來源:國際能源
 
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